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发布日期：2024-06-23 13:12    点击次数：162

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尽管现在起初进的光刻机仍是不错用于坐蓐2nm芯片，但科学家仍在捏续探索以进一步进步光刻机的概述性能，用于产生光源的激光器或成下一个蹂躏口。 近日，据Tom's Hardware报谈，好意思国本质室正在开发一种拍瓦（一种功率单元，暗示10^15瓦特）级的大孔径铥（BAT）激光器。据悉，这款激光器领有将极紫外光刻（EUV）光源后果提高约10倍的才略，或有望取代现时EUV器具中使用的二氧化碳激光器。 事实上，这则音书最早不错回首至上个月。那时好意思国劳伦斯利弗莫尔国度本质室（LLNL）在新闻稿中声称...

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